我们制造磨具，固定形状是我们比较难以确定是我们常见的问题，现在我们拥有成都DLC涂层技术让所有问题都迎刃而解！

在铸造模型的过程中，传统的真空蒸发镀膜法具有较高的沉积速度， 生成的薄膜纯度高， 但薄膜与基体结合强度差。离子注入法与基体结合牢固， 表面不存在粘附破裂或剥落。然而， 离子注入的注入层太薄， 仅数百纳米， 在耐磨工况下应用受到一定限制。为了克服真空蒸发镀膜法结合力差以及离子注入法注入层浅的问题，把薄膜蒸发沉积与离子注入技术结合起来，真空蒸发离子束辅助沉积技术。该技术在用蒸发源(电子束) 将元素沉积在基片上的同时， 用离子轰击镀层， 以获得比离子注入层更厚、比蒸发镀膜法附着力更大的高性能致密膜层。经真空蒸发离子束辅助镀膜处理后形成了光滑、致密的成都DLC涂层， DLC 薄膜降低了基体材料的摩擦因数， 改善了摩擦学性能。

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