成都PVD涂层厂家告诉你有两种成熟的PVD方法：多弧电镀和磁控溅射。多弧电镀设备结构简单，操作方便。其离子蒸发源依赖于电焊机的电源。

PVD是物理气相沉积“Physical Vapor Deposition”的缩写。现在我们通常把真空蒸发、溅射和离子镀称为物理气相沉积。

成都PVD涂层告诉你，它插电即可工作，其引弧过程类似于电焊。具体而言，在一定的工艺压力下，引弧针与蒸发离子源短暂接触和断开，以排出气体。多弧电镀的主要原因是借助移动的弧点在蒸发源表面连续形成熔池，从而使金属蒸发并沉积在基底上以获得薄膜层。与磁控溅射相比，它不仅具有靶材利用率高的优点，而且具有金属离子电离率高、薄膜与衬底结合力强的优点。

此外，PVD涂层告诉您，多弧电镀涂层的颜色相对稳定，特别是在制作tin涂层时，很容易在每批中获得同样稳定的金黄色，这是磁控溅射法无法达到的。多弧电镀的缺点是在传统直流电源μM的低温镀膜条件下，当镀层厚度达到0.3时，沉积速率接近反射率，成膜困难。

此外，PVD涂层表面开始变得模糊。多弧电镀的另一个缺点是，由于金属熔化后蒸发，沉积的颗粒大，密度低，耐磨性比磁控溅射差。可见，多弧镀膜和磁控溅射各有优缺点。为了充分发挥各自的优势，实现互补，多弧技术与磁控管技术相结合的镀膜机应运而生。在此过程中，出现了一种新的多弧电镀方法，然后通过磁控溅射使镀层增厚，.后采用多弧电镀来实现.终稳定的表面镀层颜色。

20世纪80年代中后期，PVD涂层发现了热阴极电子枪蒸发离子镀和热阴极电弧磁控管等离子喷涂机，具有很好的应用效果，使镀锡工具很快得到广泛应用。热阴极电子枪蒸发离子镀，用铜坩埚加热熔化镀金属材料，用钽丝加热脱气工件，用电子枪提高电离率，不仅能获得3~5μM的厚度，而且附着力和耐磨性好，即使通过研磨也很难去除。然而，这些装置仅适用于镀锡或纯金属膜。对于多组分涂层或复合涂层，很难满足高硬度材料高速切削和模具应用多样性的要求。